本實驗室成立於2009年9月,以研究基本的磁性材料科學與其相關的應用為研發重點,同時亦研究奈米薄膜材料的各項特性。而研究主題包括物質的相變化行為探討,磁性質研究,顯微組織研究及薄膜品質工程等。試片的形式以薄膜與粉末為主,尺寸大都在100 nm以下。
服務說明:
儀器設備:
1. 四濺鍍源真空濺鍍系統附掛離子蝕刻儀 (4 Guns)
2. 三濺鍍源真空濺鍍系統 (3 Guns)
3. 管狀退火爐 (可做RT~1100 ̊C高真空慢速退火)
4. 快速升溫退火爐 (RTA,可做RT~1100 ̊C高真空超快速退火)
5. 雙軸旋轉拋光機 (Polisher for TEM sample preparation)
6. TX (量測薄膜升溫過程中的反射率)
7. 離子薄化機 (Ion Miller)
8. 200 keV高解析穿透式電子顯微鏡 (HRTEM, JEM-2010)
9. X光繞射儀 (XRD, Bruker D8 Discover)
10. 原子力/磁力/電力 顯微鏡 (AFM/MFM/EFM, Bruker AFM Innova)