離子束研磨系統
國立臺灣大學 工學院 貴重儀器實驗室 離子束研磨系統管理小組
此設備用於為穿透式電子顯微鏡試片製作。穿透式電子顯微鏡的試片厚度需低於數十奈米，以得到良好的分析影像。這樣的厚度非傳統機械式研磨可以輕易達到，而利用此套系統，以氬氣離子將試片轟擊以產生電子可穿透的薄區，提供可靠的試片製作方法。離子轟擊的過程中，試片表面很容易產生非晶相的薄膜，影響穿透式電子顯微鏡中高解析影像的品質。這套設備可以利用低加速電壓產生較低能量的氬氣離子，將試片表面的非晶層清除。
廠牌型號：
Gatan Precision Ion Polishing System II, 695.B
加工精度及限制說明：
規格：
1. 電壓輸出範圍: 100V~8kV。
2. 離子束入射角度±10度。
試片尺寸：
1. 標準TEM試片尺寸(直徑為3 mm圓盤)。
2. 試片須先以機械研磨方式剪薄至20 m。
收費標準：
200元
設備照片：
關於服務提供單位
