真空濺鍍設備
廠牌型號：
DC(磁控式直流濺鍍)/RF(射頻濺鍍)
量測精度及限制說明：
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設備名稱 |
真空濺鍍設備 |
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廠牌型號 |
DC(磁控式直流濺鍍)/RF(射頻濺鍍) |
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規格 |
電量需求220V/225A |
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設備特色說明 |
可使用濺鍍製程為DC(磁控式直流濺鍍)製程與RF(射頻濺鍍)製程，配合所使用之金屬合金靶材(Mo、CdS、AZo、ZnO、Al、Cu、CIS 等)，於玻璃基材上濺渡薄膜並堆疊，配合光罩、微影等等之製程就能實驗濺鍍太陽能面板，並可測試各種參數以尋找最佳效率的太陽能薄膜電池。 |
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負責人員 |
周煥銘 |
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技術服務類型 |
□檢測／量測 ▓加工 |
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服務提供方式 |
▓委託處理 □ 租借場地設備 |
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服務說明 |
鍍膜專用 |
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關鍵字 |
濺鍍 |
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購買日期 |
2006/09/20 |
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加工精度及限制說明 |
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收費標準 |
500 元/件次 |
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最低收費價格 |
500 元 |
收費標準：
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500 元/件次 |
設備照片：
關於服務提供單位
