X射線繞射儀(XRD)

國立虎尾科技大學 研究發展處 微奈米科技共用實驗室

 

1.薄膜繞射

2.塊材繞射

3.高溫繞射量測

廠牌型號: 
BRUKER D8
購買日期: 
98.12.01
加工精度及限制說明: 

1.多晶薄膜繞射:

 樣品準備:塊材樣品,0.5CM × 0.5CM   若為低略角建議試片大小   1CM x 1CM

 

(膜厚:20~200nm)

 

 2.Rocking curve

 

樣品準備:磊晶薄膜樣品,大於1cm × 1cm

 

(需已知欲測之繞射主峰角度 (2 Theta),磊晶層數,各層大約厚度及成份)

 

3. 高溫繞射:

 

試片建議大小為 1.8cm x1.8cm ~ 2.8cm x 2.8cm之間 ,試片厚度不得超過 5mm

 

測試材料不得為高分子或易揮發材料,請清楚知道自己的材料熔點為幾度,避免試片揮發或熔解於拍攝平台上。

本儀器最高溫度可達 900℃,最高溫速率 1℃/sec

 

 

 

 

 

收費標準: 

 


 

校內(含中區技職伙伴學校)

校外

塊材及薄膜繞射量測

NT 300/hr

NT 350/hr

高溫繞射量測

NT 500/hr

NT 750/hr

 

 


 

校內(含中區技職伙伴學校)

校外

塊材及薄膜繞射量測

NT 300/hr

NT 350/hr

高溫繞射量測

NT 500/hr

NT 750/hr

 

 

 

 

 

 

設備照片:
關於服務提供單位
國立虎尾科技大學 研究發展處 微奈米科技共用實驗室
國立虎尾科技大學 研究發展處 微奈米科技共用實驗室
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註冊日期:2017-12-21