射頻/直流濺鍍機
利用電漿對靶材進行離子轟擊，將靶材表面的原子以氣體分子形式發射出 來，並到達所要沉積的基板上形成薄膜。
廠牌型號：
ULVAC mini-sputter
購買日期：
2007年
加工精度及限制說明：
1.極限壓力: 1.3 x 10-5 Pa
2.試片最大尺寸：4″
3.最高溫度：500°C
4.旋轉速率：6 to 20 rpm
5.氣體：Ar、O2 、 N2
收費標準：
開機費:907元
額外加收20.41元/分
備註
1. 校外學術單位，基本收費 × 1.5
2. 校外營利單位，基本收費 × 3
設備照片：
關於服務提供單位
